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• 原材料及晶圓
  • 高純氧化鎵原料
  • 氧化鎵單晶襯底片
  • 氧化鎵單晶外延片
• 晶體生長(zhǎng)設(shè)備
  • EFG、VB、CZ、FZ法等晶體生長(zhǎng)設(shè)備
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  • 升華法單晶生長(zhǎng)設(shè)備（PVT法）
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• 上蠟設(shè)備&脫蠟設(shè)備
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• 研削&研磨&拋光設(shè)備
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  • 中型設(shè)備
  • 全自動(dòng)設(shè)備
• MIST-CVD外延設(shè)備
  • Mist-CVD氧化物薄膜沉積設(shè)備 M150A
• 高溫退火爐
  • 高溫退火爐 PFS-4000
• 快速高溫退火設(shè)備
  • 快速高低溫退火設(shè)備RTA（離子注入后活化激活）
• 背面處理設(shè)備
  • 全自動(dòng)晶片減薄設(shè)備SGM-9100
• 鍵合設(shè)備
  • 高還原性低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 FATB
  • 高還原性低溫?zé)釅簩?duì)準(zhǔn)鍵合設(shè)備 MAFP
  • C2W低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 SAFP
• 量測(cè)設(shè)備
  • 晶片邊緣輪廓儀
  • 非接觸測(cè)厚設(shè)備（用于晶片、電路板等產(chǎn)品）
  • 飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀 TOF-SIMS
  • 多功能掃描X射線光電子能譜儀 XPS
• 配件及耗材
  • 鉭罩（碳化硅晶體生長(zhǎng)爐關(guān)鍵部件）
  • 金剛石研磨液
  • 拋光液
  • 拋光布及拋光墊
  • 研磨盤及拋光盤